株式会社SETO ENGINEERING(セトエンジニアリング)

TAB/COF製造装置

溶解銅めっき装置 ELECTROLYZE CU PLATING M/C

溶解銅めっき装置概念図
主要スペック
目   的 ブラインドビア及び、スルーホールなどに電解銅めっきをする装置です。 また、セミアディティブのパターン鍍金も可能です。
※CCL材用鍍金も可能です。ご相談下さい。
Lane構成 1Lane
搬送速度 0.5m~1.5m/min(仕様による)
材 料 幅 ~540mm
材料厚み PI 25μm~
加 工 面 両  面 (片 面 or 両 面)
装置構成 巻出~脱脂~酸洗~銅めっき~防錆~純水洗~液切り~乾燥~巻取
ユーティリティー 電源 AC200V・220V / 50Hz・60Hz
市水、純水、冷却水、スクラバー、熱排気、( スチーム )
装置寸法 仕様による (概略)※操作盤、付帯設備は別置き
    
巻出・巻取部
巻出~前処理部
巻出・巻取部
巻出~前処理部
Uターン部
銅鍍金部
Uターン部
銅鍍金部